恭喜！IF 6.3！中科院2区期刊《Applied Surface Science》已成功发表！

文章已发表在SCI期刊Applied Surface Science（最 .新中科院SCI期刊分区：材料科学2区，IF 6.3），评论可以沾沾好运~

 

 

标题为：Highly reflective porous SiC with layered nanostructures formed by electrochemical etching

 

摘要

本文报道了一种具有自发层状纳米结构的高反射多孔碳化硅材料。该材料在大部分可见光范围内表现出高反射率（R > 90%），其制备通过氢 .氟酸/乙醇溶液阳极电化学蚀刻实现。观察到的形貌特征证明了稀氢 .氟酸溶液形成独特层状纳米结构的能力。计算机模拟的多层干涉效应能够解释观察到的高反射现象。

此外，基于X射线光电子能谱对表面化学的研究，我们建立了对蚀刻机制的全面理解。通过拉曼光谱和X射线衍射验证了尺寸效应，同时报道了光致发光和阴极发光对荧光特性的测量。这种热稳定性优异的碳化硅反射器的成功制备，在光电子器件和传感器领域具有潜在应用价值。

 

图文摘要

 

研究结果（部分）

 

图1. 电化学蚀刻槽结构示意图。

 

图2. 电化学蚀刻制备的多孔SiC材料（呈现亮白色外观）。

 

图3. (a-d)制备的多孔SiC的EDS面分布分析及(e)EDS能谱。

 

图5. 多孔层与裸晶圆的反射光谱对比。

 

图8. 电化学刻蚀反应机理示意图。

 

图10. 4H-SiC的XRD谱图对比（多孔层与裸晶圆）。

 

图11. 4H-SiC裸晶圆与多孔层的XRD织构分析综合极图（红色圆点标示典型晶向）

 

结果与讨论（节选）

综上所述，我们通过电化学方法成功制备出具有高反射率（R > 90%）的多孔碳化硅材料，该材料可自发形成层状纳米结构。

本研究对这一新发现的高反射率多孔碳化硅进行了全面表征，包括微观结构和表面化学特性的详细分析。通过建立近似实际微观结构的光学模型，计算机模拟结果与实测反射光谱高度吻合。

基于碳化硅固有的热稳定性和化学稳定性，此类反射纳米结构在光电器件领域具有重要应用潜力，包括宽温域漫反射器和化学传感器等。

 

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